银川半导体行业洁净室要控制的几大要点

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半导体行业洁净室要关注的几大要点

一、半导体洁净室要控制的的主要因素

1、洁净室温度：23±1℃

2、洁净室湿度：45±3%rh

3、洁净室噪声：烦恼效应，语言通讯干扰，影响工作效率，低频噪声影响设备

4、洁净室压力：正压与负压是相对而言，一个洁净室对大气而言是正压洁净室，但对另外一个房间而言可能是负压洁净室。不同等级的洁净室以及洁净区与非洁净区之间的压差不小于5Pa，洁净区与室外的压差不小于10Pa.

5、洁净室静电：地面的面层应具有导电性能，并应保持长时间性能稳定，采用静电耗散性材料，地面应设有导电泄放措施和接地构造，流动液体，气体或粉体管道应采取防静电接地措施。

6、洁净室振动：*密设备、*密仪器仪表的容许振动值应由生产工艺和设备制造部门提供。振动尤其对光刻设备影响**。

7、洁净室洁净度：半导体洁净室控制的重中之重

生产区：1000级

黄光区：100级

Mask光罩区：10级

二、如何控制洁净室内颗粒物?

通常通过服装，MAU，FFU及入口的风淋室等控制手段，可有效控制颗粒物的产生

洁净室：空气悬浮粒子浓度受控的房间。它的建造和使用应减少室内诱入、产生滞留粒子。室内其它有关参数如温度、湿度、压力、静电、振动、噪声等按要求进行控制。

为什么半导体行业需要建造洁净室：由于半导体工业所制作的集成电路元件尺寸越来越小，在一块小小的芯片上，整合了许许多多的元器件，因此在制造的过程中就要防止外界杂质污染源(包括尘埃、金属离子、各类有机物等)，因为这些污染源可以造成元器件性能的劣化及产品成品率和可靠性的降低。所以制造集成电路需要在洁净的环境中进行，以尽量将污染源和硅片隔离。